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纳米研磨机哪个牌子好
派勒超大型高效纳米研磨机派勒超大型高效纳米研磨机拥有多项发明专利,采用德国DIN工业和欧洲CEN 以及EMC产品设计标准,全氧化锆或氮化硅转子和碳化硅研磨桶结构,无
品牌:
其他
单价:
面议
起订:
1
供货总量:
362837
发货期限:
自买家付款之日起天内发货
所在地:
北京
有效期至:
长期有效
最后更新:
2017-10-23 17:39
浏览次数:
12
公司基本信息
巩义市建民机械厂位于河南省巩义市境内,紧靠陇海铁路,毗临310国道,交通十分便利,耐火材料资源丰富,是得天独厚的生产机械产品基地。  我公司主要产品有:大型金属粉碎机|易拉罐粉碎机|金属破碎机|双级粉碎机|摩托车破碎机|木粉机|废旧金属破碎机|油漆桶破碎机|压块破碎机|压块金属破碎机|易拉罐粉碎机厂家|易拉罐粉碎机价格|金属破碎机厂家|双级粉碎机厂家|金属粉碎机|木材粉碎机|冰箱破碎机|洗衣机破碎机|彩钢瓦破碎机|废旧自行车破碎机|散热器粉碎机|废铁皮破碎机|两轴金属破碎机等产品。  我公司“以质量求生存,以科技求发展,诚信为本,用户第一,信誉第一,服务第一”为宗旨。坚定不移地执行“将心比心,与用户一心,以心换心,让用户放心”的质量方针和热情周到的售后服务制度,保持和发扬良好的职业道德风
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详细说明
派勒超大型高效纳米研磨机派勒超大型高效纳米研磨机拥有多项发明专利,采用德国DIN工业和欧洲CEN 以及EMC产品设计标准,全氧化锆或氮化硅转子和碳化硅研磨桶结构,无金属污染、有极高的耐磨性和较长的使用寿命,能实现粒径分布最窄,所生产的颗粒粒径可达到50纳米以下。中文内容超大型高效纳米研磨机是举世闻名的大流量高速纳米研磨机,纳米用循环研磨机是PHN 的新一代产品。与其他砂磨机相比,PHN 的用途更加广泛,适用产品批次更加大。该机型设计新颖,操作简单,特别适用于细度要求在纳米级范围的大批次物料湿法研磨和分散。与传统砂磨机比较具有以下优点:Pühler 全新型超大纳米研磨机是Dr.Alexander.Pühler在全球知名的研磨系统上做了进一步的研发; 并取得专利局批准,通过采用最新研发的超大型涡轮式动态转子功能部件与大流量筛筒式分离器分离物料与研磨球的最新设计理念的卧式整研磨腔砂磨机能保证获得最高的生产能力。并将其完美合理组合,为您提供更经济的湿法研磨技术;全封闭式,短/粗型的研磨腔设计元素,16:10 之黄金分割比例的长度/直径/线速度系数比更佳,高能密度(2 kW/dm3)销棒式高速纳米砂磨机生产效率是普通砂磨机的3-5倍,搅拌转子可为大尺寸销棒空心转子或涡研磨结构二种体系,克服了传统砂磨机研磨介质分布不均的缺点和单批过小的难题,达到产量高、批次大的效果。研磨难以分散的材料,经第三方验证细度 D99<30nm;最大研磨腔容量可以达到250升,研磨产品批次达到10吨,每小时流量达到2800-18000升,所研磨料浆的粘度范围广泛:20 mPas - 9000 mPas,采用循环研磨工艺或多次研磨工艺能使产能提高,产品颗粒级配分布得以优化;通过采用高效分离系统 SCS(大流量筛筒缝隙式离心分离器Super Canister Separation System)使得即使在非常高的流量下仍能保证研磨珠的安全分离,极大尺寸的筒式离心分离器筛网 SCS 使得流动阻力(即压降)最小,由于离心力的作用,空心结构的涡轮转子和主轴一起旋转,空心涡轮转子内几乎无磨球,SCS 出料分离器系统无磨损,出料过流面积大,过滤效果好,工作寿命长;通过改良后的出料口设置于出料阀兰的中下部,降低了物料沉湎时所带来的研磨腔内分离器的堵塞;采用全进口带冷却液的双向滑动双端面机械密封装置,密封效果好,运行可靠,保证了轴承运行的可靠性;研磨主轴及进料泵的驱动由变频器控制,并显示实际转速和电流,达到现代化可视管理要求;物料的流量由流量计控制,研磨筒冷却水流量测定;研磨腔内压力由压力传感器控制,当压力过高时机器会自动保护进入停机报警状态;产品进料和出料的温度可以测量,如果需要,冷却水温可测量并自动加入,当出料物料温度高于设定值时机器会自动保护进入停机报警状态;单台研磨机能耗由所配置电柜独立电表统计核算成本,稍加一些智能控制功能,可保证产品的可复制性及节省成本,降低能耗等;对于防金属污染的物料,可采用氧化锆陶瓷(碳化硅,氮化硅,GX 280特耐磨钢)及PU 聚氨酯结构材料。中文应用领域派勒纳米研磨机:主要应用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超细研磨及分散:1) Color paste / Color filter / TFT LCD? :R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到纳米级,透明度需超过90%,粘度控制在 5-15 CPS,含水率在1%以下。2) Ink-jet Inks:颜料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到纳米级,粘度控制在5 CPS 以下。3) CMP (chemical mechanical polish) slurry:半导体晶片研磨所需之研磨液粒径已达纳米级且能满足无金属离子析出要求。4) TiOPc (optical contact):应用于雷射列表机光鼓上所涂布光导体,已研磨分散到纳米级。5) 纳米级粉体研磨,如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…,可分散研磨到30 nm。6) 纳米级粉体分散。如将纳米粉体分散到高分子,或将纳米级粉体添加到塑胶﹑橡胶等进行分散。7) 医药达到纳米级要求,且需能满足FDA 要求。8) 食品添加剂达到纳米级之要求。如β胡萝卜素…,需满足GMP 要求。9) 电子化学品达到纳米级需求,且需能满足无金属离子析出问题。10)其他特种军工, 航空纳米材料。11)如:电子产业﹑光电产业﹑医药生化产业﹑化纤产业﹑建材产业﹑金属产业﹑﹑磁性材料﹑保健品﹑生物制药和细胞破碎﹑氧化物﹑纳米材料﹑医药生化产业﹑肥皂、皮革、电子陶瓷、导电浆料、胶印油墨、纺织品、喷绘油墨、芯片抛光液、细胞破碎、化妆品、喷墨墨水、金属纳米材料、塑料材料、特种纳米航空材料等行业.
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