等离子去胶刻蚀仪------公司致力于前处理仪器研发制造，无机元素分析领域，公司研制的石墨系列产品等到了市场广泛认可，诚信务实使我们一直坚守的原则，高质量高性能是我们对自身产品的要求。咨询联系方式：联系 人：黎经理联系电话：15101628112座机号码：010-63752026 联 系 QQ：2161613766公司地址：北京市丰台区科兴路7号国际企业孵化中心301室原理通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。应用范围：该设备可以实现表面清洗清洁、表面活化、键合、去胶、金属还原、简单刻蚀、器械的消毒、去除表面有机物、疏水实验、镀膜前处理等。等离子去胶刻蚀仪参数：序号 型号 CPC-A CPC-B CPC-C 1 舱体尺寸 275X110（直径）mm 295X150（直径）mm 295X150（直径）mm 2 舱体容积 2.6L 5.2L 5.2L 3 射频频率 40KHz 40KHz 13.56MHz 4 射频功率 10-200W无极可调 10-200W无极可调 10-150W无极可调 5 电 源 220V 50/60HZ 220V 50/60HZ 220V 50/60HZ 6 电 流 1.2A 1.2A 1.2A 7 时间设定 1-99分59秒 1-99分59秒 1-99分59秒 8 气体稳定时间 1分钟 1分钟 1分钟 9 真空度 100pa以内 100pa以内 100pa以内 10 等离子激发方式 电容式 电容式 电容式 11 外形尺寸L*W*H 480*450*265mm 520*450*290mm 520*450*290mm 12 整机重量 15Kg 20Kg 25Kg 等离子去胶刻蚀仪特点：1、触摸式按键+4.3寸液晶显示屏，显示更清晰，操作更人性化2、整机采用不锈钢材质，经久耐用，防锈防腐蚀3、真空压力传感器和气体流量计均采用美国进口4、独特的双气路设计，气流控制更加便捷5、智能控制系统可以实现手动模式和自动模式，任意切换6、智能时间设定、功率设定等功能7、使用方便，无需任何耗材8、日常维护成本低，只需保持清洁。样品前处理仪器关系整个实验的进程和数据质量，CIF公司注重科研，注重人才培养，注重仪器的实用性，自主设计研发，自主完善售后保障体系，确保每一台仪器运行保质保量。