盐城阜宁活性炭吸收塔推荐，是一家集科研、设计、生产、维修、销售脱硫除尘器、工业吸尘设备、废气净化塔。

　　1.吸附效率高，吸附容量大，适用面广

　　2.维护方便，无技术要求

　　3.比表面积大，良好的选择性吸附

　　4.活性炭具有来源广泛价格低廉等特点

　　5. 吸附效率高,能力强

　　6. 操作简易、安全

　　活性炭使用一段时间后，吸附了大量的吸附质，逐步趋向饱和，丧失了工作能力，严重时将穿透滤层，因此应进行活性炭的再生或更换。

　　活性炭吸附塔设备特点

　　活性炭吸附塔能对苯、醇、、觯、酯、汽油类等有机溶剂的废气吸附回收，更适用于小风量高浓度的废气治理，因此喷涂、食品加工、印刷电路板、半导体制造、化工、电子、制皮业、乳胶制品业、 造纸等行业均可选用. 活性炭吸附设备主要是利用多孔性固体吸附剂活性炭具有吸附作用，能有效的阹除工业废气中的有机类污染物质和色味等，广泛应用于工业有机废气净化的末端处理，净化效果良好。气体经管道进入吸收塔后，在两个不同相界面之间产生扩散过程，扩散结束，气体被风机吸出并排放出去 。

　　活性炭吸附技术在国内用于医药、化工和食品等工业的精制和脱色已有多年历史。70年始用于工业废水处理。活性炭吸附法已逐步成为工业废水二级或三级处理的主要方法之一。有机废气活性碳吸附塔广泛用于家具木业、化工涂料、金属表面处理等喷涂、喷漆、烘干等产生有机废气及异味场所，采用优质吸附活性碳作为吸附媒介，有机废气通过多层吸附层进行过滤吸附，从而达到净化废气的目的。

　　工艺(主要技术)特点：

　　分为手动式和自动式两种，结构紧凑一体化，易于安装和操作维护；

　　滤速高，处理量大，运行效果稳定，设备占地少；

　　滤料截污容量大，孔隙率高，耐摩擦，比重适中

　　选择废气处理主要考虑：风量大小，气体温度，安装高度，使用环境的温度，进风口前的除雾装置一定需要处理好。

　　参数基准编辑

　　（1） 废气组成：甲苯 二甲苯等有机性废气（其中铁烤线含高温）+大量漆雾以及相关杂质。

　　（2） 废气入口温度：常温以及小于120℃烤漆废气。

　　（3） 废气排放总量：160000CMH（立方米每小时）其中旧有铁烤线总风量为：45000立方米每小时；新增涂装线废气量+旧有废气总量为119400立方米每小时；

　　（4） 广州二级排放标准：废气总量（非甲烷总烃）120mg/m3；

　　氧化物气体：一氧化碳，二氧化碳，二氧化硫，三氧化硫，双氧水，五氧化二磷，一氧化氮，二氧化氮，氧化钠，氧化钾，氧化银，，氧化铜，氧化镁，氧化钙，氧化锌，氧化亚铁，氧化铁，氧化铝，二氧化钛，二氧化锰，四氧化三铁等

　　有机气体：苯类，醇类，酚类等。治理不同的有害气体采用不同的吸收液。如需详细了解敬请致电

　　试剂为Fe2+和H2O2的组合，其氧化机理为Fe2++H2O2→˙OH+OH-+Fe3+Fe3++H2O2→Fe2++˙HO2+H+，因此试剂在水处理中具有氧化和混凝两种作用，在黑暗中就能降解有机物，节省了设备投资，然而H2O2利用率不高，不能充分矿化有机物。

　　当有光辐射(如紫外光)时，Fenton试剂氧化性显著提高。UV/Fenton法也叫光助Fenton法，是普通Fenton法与UV/H2O2两种系统的复合产物，降低Fe2+用量的同时保持H2O2较高的利用率，而UV和Fe2+对H2O2的催化分解存在协同效应，˙OH的生成速率远大于传统Fenton法和紫外催化分解H2O2速率的简单加和。

　　因此UV/Fenton试剂法在处理难降解有机污染物时具有独特的优势，很有应用前景。

　　非均相光催化氧化技术主要为TiO2光催化氧化技术。自从日本学者Fujishima和Honda于1972年在半导体TiO2电极上发现了水的光催化分解作用，开辟了半导体光催化这一新领域。1977年，Yokota等发现TiO2在光照条件下对丙烯环氧化具有光催化活性，从而拓宽了光催化的应用范围，为有机物氧化反应提供了一条新的思路。

　　此后范围内便开始了光催化氧化技术在污水处理、空气净化、抗菌杀毒、有机合成等方面的应用研究，半导体光催化技术受到全的广泛关注，并得到了快速发展，成为上做活跃的研究领域之一。

　　不同类型有机物的光催化降解半导体光催化剂大多是n型半导体材料(当前以TiO2使用最广泛)，具有区别于金属或绝缘物质的特别的能带结构，即在价带和导带之间存在一个禁带。由于半导体的光吸收阈值与带隙具有公式K=1240/Eg(eV)的关系，因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。在光照下，如果光子的能量大于半导体禁带宽度，其价带上的电子(e-)就会被激发到导带上，同时在价带上产生空穴(h+)。当存在合适的俘获剂、表面缺陷或者其他因素时，电子和空穴的复合得到抑制，就会在催化剂表面发生氧化—还原反应。

　　价带空穴是良好的氧化剂，导带电子是良好的还原剂，在半导体光催化反应中，一般与表面吸附的H2O、O2反应生成˙OH和超氧离子O2-，能够把各种有机物直接氧化成CO2、H2O等无机小分子，电子也具有强还原性，可以还原吸附在其表面的物质。激发态的导带电子和价带空穴能重新合并，并产生热能或其他形式散发掉。

　　氧化性强：

　　半导体光催化具有氧化性强的特点，对臭氧难以氧化的某些有机物如、四氯化炭、、都能有效地加以分解，所以对难以降解的有机物具有特别意义，光催化的有效氧化剂是羟基自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-、0-），其氧化性高于常见的臭氧、双氧水、次氯酸等

　　高效节能：

　　光催化氧化利用人工紫外线灯管产生的真空波紫外光作为能源来活化光催化剂，驱动氧化—还原反应，电能消耗低，而且光催化剂在反应过程中并不消耗，利用空气中的氧作为氧化剂，有效地降解有毒有害废臭气体、节约能源成为光催化节约能源的特点。

　　运行维护简单：

　　设备构成精简、运行简单，只需要设置风机即可，无需专人管理和日常维护。

　　光氧催化设备九大优点

　　一、高效除恶臭：能高效去除挥发性有机物（VOC）、硫化氢、氨气、硫醇类、苯系物等主要污染物，以及各种恶臭味，净化、脱臭效率最高可达99%以上，净化、脱臭效果大大超过1993年颁布的恶臭污染物排放标准（GB14554-93）．

　　二、无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使工业废气通过本设备进行分解净化，无需添加任何物质参与化学反应。

　　三、适应性强：可适应高浓度，大气量，不同工业废气物质的净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。

　　四、性价比高：灯管寿命长，灯管寿命12000小时以上，是传统UV灯管的8倍。

　　五、运行成本低：本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，（每处理10000立方米/小时，仅耗电约7.5度电能），设备风阻极低＜400pa,可节约大量排风动力能耗。

　　六、无需预处理：工业废气无需进行特殊的预处理，如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-20℃－60℃之间，湿度在30%－98%、PH值在3-11之间均可正常工作。

　　七、设备占地面积小，自重轻：适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件，设备占地面积＜1平方米/处理10000m3/h风量。

　　八、优质进口材料制造：防火、防腐蚀性能高，性能稳定，使用寿命长。

　　九、环保科技产品：采用先进技术理念，可彻底分解工业废气中有毒有害物质，并能达到完美的净化效果，经分解后的气体，可完全达到无害化排放，绝不产生二次污染，同时达到高效消毒杀菌的作用。